高純酸制備系統(tǒng)/酸提純器硝酸鹽酸等實(shí)驗(yàn)用

一、 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

        在傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)分析實(shí)驗(yàn)中，都會(huì)用到用高純酸來(lái)清洗設(shè)備以達(dá)到去除雜質(zhì)的效果，且在實(shí)驗(yàn)中所用到的酸也是需要純凈度很高能達(dá)到實(shí)驗(yàn)級(jí)別的，然而市售的超純酸往往由于價(jià)格較貴，所以很難滿(mǎn)足日常分析中對(duì)實(shí)驗(yàn)級(jí)高純酸的大量需求。

         高純酸制備系統(tǒng)/酸提純器硝酸鹽酸等實(shí)驗(yàn)用，酸純化儀：又稱(chēng)酸純化系統(tǒng)，高純酸提純器，酸試劑提純器，高純酸蒸餾純化器等，實(shí)驗(yàn)室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結(jié)果的偏差與錯(cuò)誤。

    因此，提純優(yōu)化酸的質(zhì)量，是為經(jīng)濟(jì)可行的途徑，我廠的酸純化器可用于實(shí)驗(yàn)室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機(jī)溶劑的純化，純化后的酸和Merck的一樣好，實(shí)驗(yàn)后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。

二、工作原理：

         酸純化儀是利用熱輻射原理，保持液體溫度低于沸點(diǎn)溫度蒸發(fā)，再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純?cè)噭瑥V泛應(yīng)用于樣品處理及分析實(shí)驗(yàn)中。

三、相關(guān)參數(shù)：

使用注意事項(xiàng)：
1、所有配件（控制器、電源線、加熱片等除外）放入按實(shí)驗(yàn)要求一定濃度的酸液中浸泡，去除雜質(zhì)。

2、加酸前須做好個(gè)人防護(hù)如：防濺眼鏡、防酸手套等（蒸水除外）。

四、 產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、可以滿(mǎn)足ICP、ICP-MS低的檢測(cè)限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實(shí)驗(yàn)室級(jí)超純酸，所用容器均采用Teflon耐腐蝕無(wú)吸附塑料，保證了容器內(nèi)外的純凈度，全部采用高純凈的特氟龍材料可以避免其他金屬雜質(zhì)的介入，也可以使得在酸環(huán)境下的提取中更好的操作，控制盒分離保護(hù)了電子元器件被腐蝕，延長(zhǎng)了使用壽命。可處理如HNO3、HCl、HF等實(shí)驗(yàn)室的常用酸。

2、實(shí)驗(yàn)證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過(guò)一次蒸餾后，金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對(duì)酸要求更高，可增加提純次數(shù)，酸純化的則越純凈。

【電子級(jí)酸】：

適用于半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析，根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量，劃分為4個(gè)級(jí)別：MOS級(jí)，VLSI級(jí)，ULSI級(jí)，SLSI級(jí)

MOS級(jí)（EL級(jí)）：控制十多個(gè)金屬元素，單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右

VLSI級(jí)：控制三十多個(gè)金屬元素，單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb

ULSI級(jí)：控制三十多個(gè)金屬元素，單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下

SLSI級(jí)：控制三十多個(gè)金屬元素，單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下

所謂的電子級(jí)酸，其實(shí)就是ppb或者ppt級(jí)的高純酸。

實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)（僅供參考）：儀器：CH-I 酸純化器；試劑：優(yōu)級(jí)純的HF

蒸餾后，經(jīng)中國(guó)地質(zhì)大學(xué)地質(zhì)過(guò)程與礦產(chǎn)資源國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室ICP-MS檢測(cè)出HF中雜質(zhì)的含量：

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